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MC1000離子濺射儀


由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細**需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤

其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。



主要特點:

1. 操作方便且有記憶功能,首 創LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;
3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。


應用領域:
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。


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